ATX200N氧化膜測厚儀概(gai)況

ATX200N氧化膜測(ce)厚儀(yi)配置嵌入式傳感器，采用電渦流(liu)法，可用于無損測(ce)量(liang)非磁性基(ji)體上非導(dao)電涂(tu)層厚度，符合以(yi)下工(gong)業(ye)規(gui)范和(he)標準： GB/T 4957非磁基(ji)體上非導電覆(fu)蓋層覆(fu)蓋層厚度(du)測量渦流法， JB/T 8393磁性(xing)和渦流式覆層厚度(du)測量儀 DIN EN ISO 2178 ASTM B499 ;具有(you)高精度、易(yi)操(cao)作(zuo)、穩定，簡單(dan)、可靠、可用于(yu)(yu)現場快(kuai)速測量(liang)等特點(dian)，配(pei)置集成測量(liang)探頭，可無損、快(kuai)速、精密(mi)地(di)進行非磁(ci)性金屬(shu)表面非導電涂層厚(hou)度測量(liang)，易(yi)于(yu)(yu)操(cao)作(zuo)，廣泛應用于(yu)(yu)工(gong)業、船舶(bo)、橋梁、航空、工(gong)程(cheng)、化(hua)工(gong)等領域(yu)。

ATX200N涂層測厚(hou)儀原理

ATX200N氧化膜測厚儀的工作原理是當測頭靠近金(jin)屬基體時，由于高頻交變電流在線圈中產(chan)生了電磁場，金(jin)屬基體會(hui)形成電渦流并對(dui)線圈產(chan)生反饋，隨(sui)后通過(guo)測量(liang)反饋量(liang)的大(da)小可推導出相對(dui)應的厚度(du)值(zhi)。

測量非(fei)磁性金屬基體(如(ru)銅(tong)、鋁、鋅、錫(xi)等(deng))上非導電覆層厚(hou)度(如:橡膠、油(you)漆(qi)、陽(yang)極氧化膜等(deng))

ATX200N氧(yang)化膜測厚儀儀技術參數

l  測量范(fan)圍:0-1250um(0-50mil)

l  分(fen)辨(bian)率:0-999um;0.1um          ≥1000um;1um

l  精度:≤100um;±2um          101-1250um;≤2.5%

l  數據存儲:500 條

l  顯示(shi):帶背(bei)光點陣(zhen)液晶屏(128X64)

l  電源:1.5VX3(AAA 干電池)

l  使(shi)用溫(wen)度:0-50°C

l  規格:128X51X31 mm

l  重量:110g

ATX200N氧化膜(mo)測厚儀基(ji)本配置